薄膜沉積設備(如化學氣相沉積CVD和物理氣相沉積PVD)是半導體制造中用于在晶圓表面沉積薄層材料的關鍵設備。這些設備依賴高純工藝氣體(如硅烷、氨氣)在真空或高壓環境下發生反應，形成導電或絕緣層。沉積過程的均勻性和純度直接影響器件性能，例如在存儲芯片或處理器制造中，薄膜厚度偏差僅允許納米級誤差。設備通常包括真空室、氣體注入系統和控制系統，要求氣體無污染以避免沉積缺陷。

為什么使用過濾器

薄膜沉積過程中，氣體若含有微?；驘N類污染物，會導致薄膜孔洞、剝落或電性失效。例如，在CVD工藝中，顆粒物可能成為成核點，引起不均勻沉積;在PVD中，污染物可能干擾濺射靶材的純度。過濾器能消除湍流和顆粒攜帶問題，確保氣流平穩，防止工藝腔體污染。恒歌KF系列真空系統氣體過濾器專為此設計，通過減少排氣湍流，提升產品產量和設備吞吐量。

過濾器介紹

恒歌的KF系列真空系統氣體過濾器專為薄膜沉積設備優化，適用于CVD、PVD等真空室的氣體回填和通風。該過濾器采用全316L不銹鋼結構，過濾精度達0.003μm，支持快速清潔的氣流傳輸。文檔指出，它在規范安裝下可確保3.000.000次循環完整性，兼容多種工藝氣體，如惰性氣體和特種氣體。其設計注重低湍流，避免氣體吹起顆粒影響沉積均勻性。

過濾器特點

● 耐壓耐溫：整體316L不銹鋼構造，耐高溫、耐腐蝕，工作壓力覆蓋真空至高壓環境，溫度適應-28°C至+482°C。

● 高效過濾：超高顆粒攔截率，通過100%完整性測試和氦氣檢漏測試，確保氣體純凈。

● 流量性能：流量壓差曲線顯示，在進氣壓力kPa下保持低阻損，如Z01K-00076型號在23°C時流量穩定。外形尺寸緊湊，易于安裝于裝載鎖或傳輸腔體。

● 定制化：可定制不同流量和尺寸，適配各種沉積設備接口。

● 它適用于短時間大流量氣體傳遞，減少維護需求。

產品應用

KF系列主要用于薄膜沉積設備的真空系統，如CVD反應器的氣體注入管線、PVD濺射機的氣路保護，以及半導體廠的工藝腔體通風。在航空航天和新能源領域，它用于涂層設備的氣體凈化，提高薄膜附著力。在MEMS制造中，該過濾器幫助實現納米級沉積精度，降低缺陷率。應用場景還包括光伏電池的沉積環節，保障長期可靠性。